简介：本品为双组份硅片清洗剂，应用于光伏，电子等行业硅片清洗。双组份硅片清洗剂适用范围广，A、B组份配合使用，洗涤能力更易调节，洗涤剂消耗更合理。

产品特点

由苛性钾、缓蚀剂、络合剂和助洗剂组成。试剂级苛性钾，为洗涤液提供皂化碱度；聚合的高效缓蚀剂、络合剂、助洗剂提供全面的洗净性能。
　　由多种表面活性剂复配而成。提供硬表面强力渗透力、协同各组分，充分发挥各自的性能。
　　对各种油脂、悬浮液和研磨膏等油性污垢，进行乳化、皂化，油污洗净率大于99%；对金属离子有很强的络合、剥离效果，对铜、铁等金属离子的洗净效果达到98%以上。不含钙、镁、铁、铜、铅等金属离子，环保性好。
　　高浓缩双组分产品，尤其适合清洗重污垢硅片；不含磷，符合欧盟ROHS环保要求；低泡产品，超声波清洗线使用，不会有泡沫溢出；除钾、钠离子以外，其他金属离子含量不高于50PPm，能满足高精度的IT要求。

3.使用工艺：

a）在清洗槽中先加3/4纯净水；
b）如果在手动线使用，建议每100升槽液中加入1～2公斤A型硅片清洗剂和0.5～1公斤B型硅片清洗剂，并尽可能减少中间的添加量，提高工作效率，当遇到磨光碾磨膏硅片及回收悬浮液切割的硅片时可以根据具体情况在每8小时添加开槽量的一半，为了保证清洗效果，建议每清洗10000～12000片硅片彻底更换。
c）一般每公斤本清洗剂可以处理125#单晶硅片2000片以上，添加时可以根据该比例计算，当遇到磨光碾磨膏硅片及回收悬浮液切割的硅片时应适当增加药剂量，当然在保证硅片成品率的情况下也可适当减少添加量；
d）将纯净水加至操作液位，加温到所需要温度，即可以使用；
e）硅片在清洗过程中尽可能减少裸露在空气中的时间，以防止产生花片。

4.注意事项：

a)线切后的晶棒不可以沾水，如不能及时清洗，最好先存放在悬浮液或清洗剂中（全部浸没）。
b)线切后的晶棒一旦上架清洗，必须马上处理。而且在整个清洗过程中不可让硅片自然干躁。
c)脱胶时必须保持硅片润湿，亦不可自然干燥。
d)一、二槽超声波清洗时须先关闭鼓泡开关，待上架完成后再开鼓泡，主要避免产生碎片。
e)每个清洗周期完成后（如班次的更替），彻底更换五、六、七、八槽的清水槽。

f)清洗人员在整个清洗过程中不得直接接触硅片，必须佩带超薄橡胶手套，以免产生指纹印。
g)为保证硅片清洗的洁净度，在脱胶前的喷淋冲洗时间最好控制在30分钟以上。
h)在使用中如遇到脏片、白斑等等问题时可及时与吉丹公司的技术服务人员联系。
i)清洗液在排放时只要中和、凝絮、沉降等等简单处理，本产品不含重金属、磷。

5.包装规格：

塑料桶包装，25kg/50kg，按客户要求包装。保质期1年；请存放于阴凉、通风干燥处，避免日光暴晒，注意防冻。